Huawei сможет освоить выпуск чипов по нормам 2 нм без нового оборудования? Патент компании описывает технологию, которая может это позволить

Компания Huawei, возможно, заполучит технологию, которая позволит ей выпускать 2-нанометровые чипы на старом оборудовании без использования экстремального ультрафиолета. 

Технология многошаблонной обработки может позволить китайской компании SMIC, которая сейчас является лидером среди китайских полупроводниковых производителей, освоить выпуск чипов по техпроцессу, который будет примерно на одном уровне с решениями класса 2 нм от TSMC, Samsung и Intel.  

В основе разработки Huawei лежит оптимизированный поток самосовмещенного четырехслойного шаблонирования (SAQP), который сокращает количество требуемых экспозиций DUV до всего четырех, что является существенным улучшением по сравнению с традиционными схемами многослойного шаблонирования, которые часто требуют гораздо большего количества проходов и значительно повышают сложность. Машины DUV сейчас используются SMIC для производства чипов по нормам 7 нм и, судя по новым SoC Kirin 9030, компания уже освоила техпроцесс уровня 5 нм. 

Технология была описана в патенте, поданном ещё в 2022 году, но выданном только в этом. Само собой, от патента до технологии, если даже она действительно реализуема на уровне массового производства, могут пройти годы.  

 Источник: Patents